程序化指标公式
问答中心

【短线题材】ASML事件引警示,光刻机国产化迫在眉睫,关注5股

热点透视 2019-11-08阅读量:182

有报道称,荷兰光刻机巨头ASML将暂时中止为“中国客户”供应“极紫外光(EUV)微影设备”。中芯国际回应称:极紫外光(EUV)还在纸面工作阶段,未进行相关活动。ASML称,出口EUV到中国需取得荷兰政府的出口许可(export license)。该出口许可于今年到期,ASML已经于到期前重新进行申请,目前正在等待荷兰政府核准。

光刻机是半导体制造业中关键设备,光刻环节实现芯片设计图从掩模到硅片上的转移,是芯片生产流程中的最关键步骤,直接决定芯片的制程水平和性能水平。芯片在生产过程中需要进行20-30次的光刻,耗时占到制造环节的50%左右,占芯片生产成本的1/3。

值得注意的是,在世界半导体起伏浪潮下,中国也开始在核心的光刻机领域追赶。2002年,上海微电子成立。公司致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的研发制造,产品包括前道光刻机、后道封装光刻机、平板显示光刻机、检测设备、搬运设备等。

2006年,上海微电子承接了光刻机国家重大科技专项—— “核高基”02专项的浸没光刻机关键技术预研项目(已通过国家验收)和90nm光刻机样机研制(已通过专家组现场测试)任务。另外,中电科45所将从事分步投影光刻机研发任务的团队整体迁至上海参与其中,参与这个项目。目前,上海微电子前道光刻机实现90nm制程,封装光刻机市占率领先。其中,IC后道封装光刻机国内市场占有率达到80%,全球市场占有率40%。此外据传上海微电子65nm制程设备正在进行整机考核,对65nm的进行升级后就可以做到45nm。

根据了解,我国光刻机设备的研制起步也不晚。从上世纪七十年代开始,先后有清华大学精密仪器系、中科学院光电技术研究所、中电科45所投入研制。其中,清华大学精密仪器系研制开发了分步重复自动照相机、图形发生器、光刻机、电子束曝光机工件台等半导体设备。另外,中科学院光电技术研究所在1980年研制出首台光刻机,中电科45所1985年研制我国同类型第一台 g线1.5um分步投影光刻机等等。

不过,八十年代底,中国开始奉行的“造不如买”的政策,一大批企业纷纷以“贸工技”为指导思想。产业抛却独立自主、自力更生的指导方针,盲目对外开放。由于没有了顶层设计,中国的集成电路在科研,教育以及产业方面出现了脱节:研发方面单打独斗,科研成果转化成产品微乎其微。

尽管中国愿意买,但仍然遭到封锁。在1996年签订的《瓦森纳协议》框架下,欧美国家最先进的几代光刻机一直对华禁售。出售的光刻机也都有保留条款,禁止给国内自主CUP 做代工,即使是小批量生产用于科研和国防领域的芯片,也存在一定风险,这很大程度上影响了中国半导体产业的发展。

由于目前ASML在光刻机领域市占率近80%,基本垄断高端光刻机。光刻机是重要的卡脖子领域,国产化迫在眉睫。

关注:智光电气北方华创南大光电蓝英装备张江高科

版权声明

所有指标均为免费分享。

文章内容来自互联网,本网站无任何收费项目也不推荐股票
广告投放请自行识别风险。

分享:

扫一扫在手机阅读、分享本文

程序化指标公众号

左边广告一

关闭

右边广告二

关闭